Invenţia se referă la optoelectronică, în special la microlasere aleatorii, care pot fi utilizate în spectroscopie, diagnostica medicală, producerea display-urilor etc. Procedeul de obţinere a microlaserului aleatoriu constă în doparea unui templat semiconductor poros prin piroliza compuşilor precursori ai elementelor de pământuri rare sau metale de tranziţie cu oxidarea simultană a lui. Pentru aceasta templatul se impregnează cu o soluţie apoasă a precursorilor menţionaţi, după care el este supus unui tratament termic timp de o oră la o temperatură de până la 1200°C, într-o atmosferă formată din gaz inert cu adaos de oxigen.
The invention relates to optoelectronics, particularly to random microlasers that can be used in spectroscopy, medical diagnostics, display production etc. The process for random microlaser obtaining includes doping of a porous semiconductor template by pyrolysis of precursor compounds of the rare-earth or transition metals with simultaneous oxidation thereof. For that the template is impregnated with an aqueous solution of said precursors, afterwards it is subjected to thermal treatment during an hour at a temperature of up to 1200°C, in an atmosphere formed of inert gas with oxygen additive.