În lucrare se prezintă un procedeu modern şi performant de depunere, utilizând tehnica pulverizării magnetron. Se prezintă principiul şi caracteristicile magnetronului, procesul de pulverizare magnetron, sisteme şi instalaţii experimentale de depunere prin pulverizare magnetron.
In this paper the author presents a modern and advanced process of deposition, using the Magnetron Sputtering. The principle and characteristics of magnetron device, magnetron sputtering process, systems and experimental installations of deposition by magnetron sputtering, are presented.
Dans ce travail est présenté un procédé modern et performant de déposition avec l’utilisation de technique de pulvérisation magnétron. Il est présenté le principe et caractéristiques de magnétron, le processus de pulvérisation magnétron, les systèmes et installation expérimentale de déposition par le pulvérisation magnétron.
В работе приведён современный метод для получения покрытий, используя технику магнетронного напыления. Приводятся принцип и основные характеристики магнетрона, описание процесса магнетронного напыления, системы и экспериментальные установки магнетронного напыления.
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